2024/12/11 更新

写真a

ニシ リュウジ
西 竜治
Ryuji Nishi

学位

  • 博士(工学)   論文 ( 1997年3月   大阪大学 )

研究キーワード

  • Electron Optics

  • 電子光学

研究分野

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 計測工学  / 電子光学

学歴

  • 大阪大学   工学部   電子工学科   卒業

    1986年4月 - 1990年3月

  • 大阪大学   工学研究科   電子工学専攻   博士前期課程   修了

    1990年4月 - 1992年3月

経歴

  • 大阪大学   工学部電子工学科   助手

    1992年4月 - 1998年3月

  • 大阪大学   工学研究科電子工学専攻   助手

    1998年4月 - 2003年3月

  • 大阪大学   工学研究科原子分子イオン制御理工学センター   助手

    2003年4月 - 2004年10月

  • 大阪大学   工学研究科原子分子イオン制御理工学センター   学内講師

    2004年11月 - 2007年3月

  • 大阪大学   超高圧電子顕微鏡センター   准教授

    2007年4月 - 2020年3月

  • 福井工業大学   工学部 電気電子工学科   教授

    2020年4月 - 2023年3月

  • 大阪大学   超高圧電子顕微鏡センター   特任教授

    2020年4月 - 現在

  • 福井工業大学   工学部 電気電子情報工学科   教授

    2023年4月 - 現在

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所属学協会

  • 日本顕微鏡学会

    1991年5月 - 現在

  • 電子情報通信学会

    1991年10月 - 2007年3月

  • 応用物理学会

    1992年7月 - 現在

  • 情報処理学会

    2000年2月 - 現在

  • 日本表面科学会

    2002年4月 - 2014年3月

  • 日本学術振興会第132委員会

    2011年7月 - 2021年3月

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委員歴

  • ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会 委員長  

    2021年4月 - 現在   

  • 電子光学設計技術研究分科会 幹事  

    2018年5月 - 現在   

  • 代議員  

    2014年4月 - 現在   

  • 関西支部庶務・会計幹事  

    2002年5月 - 2003年5月   

  • 関西支部実用分析セミナー小委員会委員  

    2003年5月 - 2007年5月   

  • 関西支部講演大会準備小委員会役員  

    2005年5月 - 2007年5月   

  • 関西支部15周年記念誌小委員会委員  

    2006年5月 - 2007年5月   

  • 関西支部評議員  

    2011年1月 - 2014年3月   

  • 委員  

    2011年7月 - 2012年1月   

  • 幹事  

    2012年1月 - 2021年3月   

  • 電子光学設計技術研究部会 幹事  

    2015年5月 - 2018年5月   

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取得資格

  • 情報処理安全確保支援士試験合格

  • 陸上無線技術士(第1~2級)

  • 放射線取扱主任者(第1~2種)

  • 衛生工学衛生管理者

  • エックス線作業主任者

  • ガンマ線透過写真撮影作業主任者

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論文

  • Low-Aberration ExB Deflector Optics for Scanning Electron Microscopy 査読

    Momoyo Enyama, Jun Yamasaki, Ryuji Nishi, Hiroyuki Ito

    Microscopy   72 ( 5 )   399 - 407   2023年10月

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    To suppress aberrations in the signal electron optics of a scanning electron microscope, we propose ExB deflector (deflector with superimposed electric and magnetic fields) optics that cancel the aberrations generated during large-angle deflection. This improves the resolution of the angle or position of the signal electrons on the sample surface, allowing them to be discriminately detected. The proposed optics consist of two ExB deflectors and a transfer system with two 4-f systems, or systems that have four times the focal length, placed between them. This configuration maintains the symmetry of the electron beam trajectory throughout the transfer system such that aberrations generated by the first ExB deflector are negated by the second. The effect of the proposed optics was confirmed using a ray-tracing simulation of the electron beam, and the aberration was reduced to at most one-tenth of that in the case with only one ExB deflector. Furthermore, as an example, we examined the implementation of the proposed ExB deflector optics to resolve the signal electron angle and found that the sample emission angle range of 80° can be resolved with an angular resolution of 1°. Therefore, the proposed ExB deflector optics can be applied to the signal electron optics of a scanning electron microscope to improve the resolution of the signal electrons.

  • Network Tele-Microscopyによる金属ガラスの微細組織観察 査読

    永瀬丈嗣, 西竜治, 市川聡

    材料   72 ( 3 )   226 - 227   2023年3月

  • Application of ultra-high voltage electron microscope tomography to 3D imaging of microtubules in neurites of cultured PC12 cells 査読

    T. Nishida, R. Yoshimura, R. Nishi, Y. Imoto, Y. Endo

    Journal of Microscopy   278 ( 1 )   42 - 48   2020年4月

     詳細を見る

    Electron tomography methods using the conventional transmission electron microscope have been widely used to investigate the three-dimensional distribution patterns of various cellular structures including microtubules in neurites. Because the penetrating power of electrons depends on the section thickness and accelerating voltage, conventional TEM, having acceleration voltages up to 200 kV, is limited to sample thicknesses of 0.2 μm or less. In this paper, we show that the ultra-high voltage electron microscope (UHVEM), employing acceleration voltages of higher than 1000 kV (1 MV), allowed distinct reconstruction of the three-dimensional array of microtubules in a 0.7-μm-thick neurite section. The detailed structure of microtubules was more clearly reconstructed from a 0.7-μm-thick section at an accelerating voltage of 1 MV compared with a 1.0 μm section at 2 MV. Furthermore, the entire distribution of each microtubule in a neurite could be reconstructed from serial-section UHVEM tomography. Application of optimized UHVEM tomography will provide new insights, bridging the gap between the structure and function of widely-distributed cellular organelles such as microtubules for neurite outgrowth.

    Key words: microtubule, neurite, section thickness, electron tomography, ultra-high voltage electron microscope

  • 超高圧電子顕微鏡結像観察系の高性能化に関する研究

    西 竜治

    1997年3月

書籍等出版物

  • 電子・イオンビームハンドブック第4版 査読

    編集委員長 臼井博明( 担当: 共編者(共編著者) ,  範囲: 1章と2章、および付録2と3の編集)

    日本学術振興会132委員会編  2021年3月  ( ISBN:978-4-600-00624-2

講演・口頭発表等

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担当経験のある授業科目

  • 電子回路Ⅱ

    2024年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • デジタル信号処理

    2021年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • ネットワークシステム特論

    2020年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • デジタル回路

    2020年4月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • コンピュータ言語Ⅱ

    2020年10月
    -
    2021年9月
    機関名:福井工業大学

  • 電子線ナノ計測学

    2016年10月
    -
    現在
    機関名:大阪大学

  • 電気数学I

    2020年4月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • 電気回路Ⅰ

    2020年10月
    -
    2021年3月
    機関名:福井工業大学

  • 電気回路II

    2020年4月
    -
    2022年9月
    機関名:福井工業大学

  • 電気電子工学実験Ⅲ

    2021年4月
    -
    2022年3月
    機関名:福井工業大学

  • 電気電子工学実験Ⅱ

    2020年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • 課題研究

    2020年4月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • FUT実践学演習Ⅱ

    2021年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • FUT実践学演習Ⅰ

    2021年4月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • FUT実践学演習Ⅲ

    2021年4月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • FUT実践学演習基礎

    2020年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • 実践工学演習Ⅱ

    2020年10月
    -
    2021年3月
    機関名:福井工業大学

  • 創造科学

    機関名:福井工業大学

  • キャリアゼミⅠ

    機関名:福井工業大学

  • キャリアゼミⅡ

    機関名:福井工業大学

  • キャリアゼミⅢ

    機関名:福井工業大学

  • キャリアゼミⅣ

    2020年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • キャリアデザインI

    機関名:福井工業大学

  • キャリアデザインⅡ

    機関名:福井工業大学

  • キャリアデザイン

    2023年10月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

  • キャリアアップゼミⅠ

    2023年4月
    -
    現在
    機関名:福井工業大学

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学術貢献活動

  • 第11回荷電粒子光学国際会議 国際学術貢献

    役割:企画立案・運営等, パネル司会・セッションチェア等

    CPO-11組織委員会・小瀬洋一  ( 福井県国際交流会館 ) 2024年10月